開缸劑, 光澤劑
產品編號: P3
全光澤平滑鍍層，優越的柔軟性及焊錫性。
- LNAD－KS（開缸劑）：
- 主要是帶出消耗，由哈式片判斷添加劑。
- LNAD－KR（光澤劑）：
- 主要是電解消耗，通常每1,000安培小時須補充550 ~ 900 cc。
- 焦兒苯酚以10 g/KAH進行補給。
- 全光澤平滑鍍層。
- 優越的柔軟性及焊錫性。
- 特佳的低電流及耐蝕性。
- 鍍液穩定性高，管理容易。
| 型式 | 滾筒電鍍 | 吊掛電鍍 |
|---|---|---|
| 烷基磺酸 | 210 cc/l | 200 cc/l |
| 烷基磺酸錫 | 29 cc/l | 52 cc/l |
| 烷基磺酸鉛 | 2.6 cc/l | 4 cc/l |
| LNAD－KS（開缸劑） | 30 cc/l | 30 cc/l |
| 溫度 | 5 ~ 25℃ | 15 ~ 20℃ |
| 電流密度 | 0.3 ~ 1 A/dm² | 1 ~ 3 A/dm² |
| 電壓 | 1 ~ 4 V | 1 ~ 4 V |
| 攪拌 | 滾筒 | 陰極擺動 |
| 陰/陽面積比 | 1: 1 | 1: 1 |
| 陽極 | Sn: Pb = 9: 1 | Sn: Pb = 9: 1 |
主要產品:
酸電解添加劑, 最終電解脫脂劑, 鎳光澤劑, 鋅置換劑, 硫酸亞錫光澤劑, 鉛/錫添加劑, 烷基磺酸, 沙丁鎳添加劑, 烷基磺酸錫, 烷基磺酸鉛, 亮銀光澤劑
聯絡資料
總經理: 林澤興 先生
業務聯絡人: 總經理 林澤興
Minimum Order:可議
地址:台北市松山區(105)民生東路五段206號3樓
電話:886-2-27531807
傳真:886-2-27674681